报告概述
本报告聚焦玻璃基板作为AI/HPC先进封装关键材料的逻辑与产业化进展。覆盖硅中介层替代、有机载板替代、射频IPD、CPO等应用场景,分析原片制备、TGV成孔等核心工艺难点,并梳理原片、精加工、辅材三大产业链环节的国内外重点企业。报告旨在帮助投资者理解玻璃基板从技术储备走向产业验证的趋势,把握相关投资机会。
报告的核心结论
玻璃基板是AI大尺寸先进封装的重要材料平台
随着AI/HPC芯片向更大尺寸、更高I/O密度演进,硅中介层受光刻与晶圆尺寸约束,有机基板在介电损耗、翘曲等方面短板凸显。玻璃材料凭借高平整度、低介电损耗、热膨胀可调及适配矩形面板加工等优势,有望成为大尺寸封装载板/中介层的理想替代方案。
英特尔首款玻璃芯载板CPU量产,产业化进入验证阶段
2026年1月英特尔发布Clearwater Forest处理器,全球首款采用玻璃芯载板的商用CPU,标志玻璃材料在封装载板层级的量产可行性得到验证。台积电CoPoS由研究进入试产,预计2028-2029年产量大幅提升,行业从主题预期走向产业落地。
射频IPD和CPO是玻璃基板率先落地的应用场景
射频IPD利用玻璃高绝缘、低损耗特性,云天半导体等已实现量产;CPO方面,玻璃基板短期作为电互连载板,长期可集成光波导,成为光电混合集成平台,头部厂商已取得低损耗波导等关键进展。
原片和TGV是玻璃基板产业链的核心难点
玻璃原片需在配方、低缺陷、大尺寸薄型化、热膨胀匹配间取得平衡;TGV成孔技术正从机械/激光烧蚀向激光诱导深度刻蚀(LIDE)演进,批量一致性和良率控制是量产瓶颈。
报告回答的关键问题
什么是玻璃基板?为什么用于AI封装?
玻璃基板是以玻璃为基材的先进封装载板或中介层。相比硅中介层,它可基于矩形面板加工,降低尺寸扩展的成本和良率压力;相比有机基板,它具备更低的介电损耗、更好的尺寸稳定性和热膨胀匹配性,能支撑AI芯片高带宽、高密度互连需求。
玻璃基板产业化进展如何?
英特尔已于2026年初量产首款玻璃芯载板CPU;台积电CoPoS进入试产验证阶段,预计2028-2029年产量大幅提升;三星电机向苹果送样,终端客户验证加速。产业化正从技术储备走向规模量产导入。
TGV是什么?为什么是玻璃基板的关键工艺?
TGV即玻璃通孔(Through Glass Via),是玻璃基板实现垂直互连的核心工艺,类似硅中介层的TSV。它通过激光诱导深度刻蚀等方法在玻璃上形成高深径比通孔并金属化,使玻璃从结构材料升级为高密度互连平台。其量产一致性直接决定玻璃基板的良率和成本。
玻璃基板产业链有哪些环节和重点公司?
产业链分为原片、精加工和辅材。原片端海外康宁、肖特领先,国内关注旗滨集团、戈碧迦等;精加工端沃格光电、京东方A已布局TGV与载板验证;辅材端天承科技在TGV电镀液上取得突破。
报告中的代表性数据
全球先进IC载板市场规模(含玻璃基板潜在替代空间)
2024年,根据Yole Group,2024年先进IC载板市场规模约142亿美元,预计2030年达310亿美元。玻璃基板有望在高端场景中逐步替代有机基板。
硅中介层市场规模
2024年,根据Yole Group,2024年硅中介层市场规模约20亿美元,预计2030年减至16亿美元,因高端封装向玻璃中介层等多元路线演进。
以上数据根据报告摘要整理,具体统计口径和数值请以完整报告原文为准。
完整报告包含什么
- 报告详细阐述了玻璃基板在AI/HPC先进封装中的替代逻辑,对比硅中介层和有机载板的性能瓶颈,并分析CoWoS向CoPoS/PLP演进的趋势。
- 深入剖析玻璃原片配方与工艺,包括无碱硼硅玻璃、铝硅酸盐玻璃等路线的优缺点,以及平整度、TTV、CTE匹配等关键指标的控制要求。
- 系统介绍四种TGV成孔技术(机械、激光消融、LIDE、光敏玻璃)的原理、优缺点和产业化前景,并重点分析LIDE的量产瓶颈。
- 覆盖射频IPD和CPO两大落地较快场景,包含玻璃基IPD量产案例、CPO双路线演进(电互连基板与光电混合集成)及头部厂商进展。
- 完整梳理海外(康宁、肖特、AGC、NEG、AT&S、Absolics)和国内(旗滨集团、戈碧迦、力诺药包、凯盛科技、彩虹股份、沃格光电、京东方A、天承科技)产业链公司布局。
- 提供市场规模预测:2024年先进IC载板约142亿美元、硅中介层约20亿美元,并给出2030年展望及玻璃基板渗透率假设。
- 包含详细的厂商产品参数对比表(如肖特面板规格、NEG玻璃性能、旗滨电子玻璃矩阵等),以及英特尔、台积电等产业化时间线。
- 投资建议与风险提示:推荐原片、精加工、辅材三大环节具体标的,并提示产业化进度、工艺进展、客户验证不及预期等风险。
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